China își construiește în secret „mașinăria” care să-i aducă supremația cipurilor AI. Prototipul EUV care ar putea schimba balanța în inteligența artificială

China ar fi ajuns mai aproape decât se credea de una dintre cele mai bine păzite tehnologii ale industriei semiconductorilor: litografia EUV, cheia pentru fabricarea celor mai avansate cipuri folosite în inteligență artificială, smartphone-uri și sisteme militare. Potrivit Reuters, într-un laborator cu securitate ridicată din Shenzhen a fost construit un prototip de echipament EUV, aflat acum în testare, într-un proiect desfășurat discret de ani de zile.

Deși prototipul ar fi operațional la nivelul generării luminii ultraviolete extreme, sursele citate spun că nu a produs încă cipuri funcționale. Chiar și așa, simpla existență a echipamentului sugerează că Beijingul împinge agresiv spre independență tehnologică într-o zonă unde Occidentul a avut, până acum, un avantaj aproape total.

De ce EUV este „butonul” care controlează viitorul cipurilor

Echipamentele EUV folosesc fascicule de lumină ultravioletă extremă pentru a „desena” pe siliciu circuite incredibil de fine, de ordinul miilor de ori mai subțiri decât un fir de păr. Cu cât aceste circuite sunt mai mici și mai precise, cu atât cipurile devin mai puternice și mai eficiente, ceea ce contează enorm pentru modele AI tot mai mari și pentru electronica modernă.

Până acum, tehnologia EUV a fost asociată cu un monopol de facto al Occidentului, iar SUA au presat în ultimii ani pentru limitarea accesului Chinei la echipamente și componente critice, inclusiv la sisteme mai vechi care pot produce cipuri mai puțin avansate. Aceste restricții au încetinit capacitatea Chinei de a recupera decalajul, dar au și accelerat investițiile interne într-un „lanț complet” de producție.

Ce ar fi reușit China și de ce miza reală este optica de precizie

Sursele descriu prototipul din Shenzhen ca fiind foarte mare, ocupând aproape un etaj de fabrică, și construit prin reverse-engineering, inclusiv cu ajutorul unor ingineri cu experiență în domeniu. Echipamentul ar fi capabil să genereze lumină EUV, un pas major, însă transformarea acestui progres într-o producție stabilă de cipuri avansate rămâne dificilă.

Blocajul major ar fi în zona opticii de precizie și a componentelor ultra-specializate, unde furnizorii occidentali au standarde și procese industriale greu de replicat rapid. Sursele sugerează că China ar fi folosit și piese recuperate din echipamente mai vechi, plus achiziții prin piețe secundare, pentru a-și construi propriul prototip.

Ținte oficiale și estimări realiste pentru primele cipuri funcționale

Guvernul ar fi vizat 2028 ca termen pentru cipuri funcționale produse pe acest prototip, însă oamenii apropiați proiectului indică 2030 ca termen mai realist. Chiar și această variantă ar fi mai rapidă decât așteptările multor analiști, care vedeau un orizont de „un deceniu sau mai mult” până la o replicare credibilă a EUV.

Dacă prototipul va trece de faza de testare și va produce cipuri viabile, impactul nu va fi doar industrial, ci și geopolitic: ar reduce presiunea sancțiunilor, ar întări companii chineze din ecosistem și ar intensifica competiția globală pentru AI, unde hardware-ul a devenit, practic, terenul decisiv.